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ICP光譜儀包括幾個(gè)主要部分?
點(diǎn)擊次數(shù):0 發(fā)布時(shí)間:2020-10-29
 

  ICP光譜儀應(yīng)用很廣,,在農(nóng)業(yè)、天文,、汽車(chē),、生物、化學(xué),、鍍膜,、色度計(jì)量、環(huán)境檢測(cè),、薄膜工業(yè),、食品、印刷,、造紙,、拉曼光譜、半導(dǎo)體工業(yè),、成分檢測(cè),、顏色混合及匹配、生物醫(yī)學(xué)應(yīng)用,、熒光測(cè)量,、寶石成分檢測(cè)、氧濃度傳感器,、真空室鍍膜過(guò)程監(jiān)控,、薄膜厚度測(cè)量、LED測(cè)量,、發(fā)射光譜測(cè)量,、紫外/可見(jiàn)吸收光譜測(cè)量、顏色測(cè)量等領(lǐng)域應(yīng)用廣泛,。

  構(gòu)成:

  一臺(tái)典型的ICP光譜儀主要由一個(gè)光學(xué)平臺(tái)和一個(gè)檢測(cè)系統(tǒng)組成,。包括以下幾個(gè)主要部分:

  1. 入射狹縫: 在入射光的照射下形成ICP光譜儀成像系統(tǒng)的物點(diǎn)。

  2. 準(zhǔn)直元件: 使狹縫發(fā)出的光線變?yōu)槠叫泄�,。該�?zhǔn)直元件可以是一獨(dú)立的透鏡,、反射鏡、或直接集成在色散元件上,,如凹面光柵ICP光譜儀中的凹面光柵,。

  3. 色散元件: 通常采用光柵,使光信號(hào)在空間上按波長(zhǎng)分散成為多條光束,。

  4. 聚焦元件: 聚焦色散后的光束,,使其在焦平面上形成一系列入射狹縫的像,其中每一像點(diǎn)對(duì)應(yīng)于一特定波長(zhǎng),。

  5. 探測(cè)器陣列:放置于焦平面,用于測(cè)量各波長(zhǎng)像點(diǎn)的光強(qiáng)度,。該探測(cè)器陣列可以是CCD陣列或其它種類的光探測(cè)器陣列,。

聯(lián)系人:李先生
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